\n\tSevilla, 6 de junio de 2014.\u00a0Un equipo liderado por investigadores del Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla ha desarrollado un mecanismo para fabricar recubrimientos nanoporosos mediante pulverizaci\u00f3n con plasma. Este novedoso procedimiento permite elaborar materiales con estructuras \u2018a la carta\u2019 y con numerosas aplicaciones.<\/p>\n
\n\tEn la industria, los materiales nanoporosos en polvo se fabrican mediante s\u00edntesis qu\u00edmica, la cual necesita de altas temperaturas y genera residuos de dif\u00edcil reciclaje. Sin embargo en este trabajo se han explorado t\u00e9cnicas alternativas al m\u00e9todo qu\u00edmico, usando plasmas para fabricar recubrimientos nanoporosos en un solo paso y a temperatura ambiente.<\/p>\n
\n\tEl plasma es un gas muy energ\u00e9tico que, en la forma utilizada en este trabajo, pulveriza un bloque s\u00f3lido y lo descompone en \u00e1tomos individuales. Los investigadores han deducido y testado experimentalmente una ecuaci\u00f3n matem\u00e1tica que les permite dirigir la llegada de \u00e1tomos a una superficie, y controlar el crecimiento de diferentes recubrimientos nanoporosos.<\/p>\n
\n\tEste nuevo procedimiento representa una mejora significativa de las t\u00e9cnicas com\u00fanmente usadas en la industria microelectr\u00f3nica, con la ventaja a\u00f1adida de poder ser extendida a la fabricaci\u00f3n de un gran n\u00famero de materiales, con aplicaciones en biomedicina o purificaci\u00f3n de gases y aguas, entre otras. Siguiendo esta l\u00ednea,\u00a0en 2013 este mismo equipo de investigadores fabric\u00f3 oro con nanoporosidad controlada, un material con aplicaciones medioambientales para la eliminaci\u00f3n de gases que provocan efecto invernadero.<\/p>\n
\n\tEn este estudio liderado por el investigador Alberto Palmero, del Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla, han participado otros investigadores del Instituto de Microelectr\u00f3nica de Madrid, del Centro Nacional de Aceleradores en Sevilla, y del Departamento de F\u00edsica At\u00f3mica, Molecular y Nuclear, de la Universidad de Sevilla. Sus resultados acaban de aparecer destacados en la portada de la revista\u00a0Plasma Processes and Polymers\u00a0de este mes de junio.<\/p>\n
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\n\tRafael \u00c1lvarez,\u00a0Jos\u00e9 M. Garcia-Mart\u00cdn, Mar\u00eda C. Lopez-Santos,\u00a0V\u00edctor Rico, Francisco J. Ferrer, Jose Cotrino, Agust\u00edn R. Gonz\u00e1lez-Elipe\u00a0and Alberto Palmero.\u00a0On the Deposition Rates of Magnetron Sputtered Thin Films at Oblique Angles.\u00a0Plasma Processes and Polymers. Doi:10.1002\/ppap.201300201<\/p>\n
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